專利名稱 一種四光束激光干涉微納加工裝置
申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào) CN202020388560.X 專利權(quán)人（第一權(quán)利人） 長(zhǎng)春理工大學(xué)
申請(qǐng)日 2020-03-24 授權(quán)日 2020-10-16
專利類別 實(shí)用新型 戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)分類 高端裝備制造
技術(shù)主題 Nano machining|納米結(jié)構(gòu)|晶體|氙氣燈|光源|偏振|材料科學(xué)|光柵|光強(qiáng)度|激光器|透射光|光束激光|激光|分辨率|光束|高分辨率
應(yīng)用領(lǐng)域 照相制版工藝曝光裝置|微光刻曝光設(shè)備
意向價(jià)格 具體面議
專利概述 本申請(qǐng)屬于多光束激光干涉微納加工技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種相位差鎖定的四光束激光干涉微納加工裝置和方法。針對(duì)現(xiàn)有的多光束激光干涉系統(tǒng)存在著分光器件多、調(diào)整光路復(fù)雜，光強(qiáng)不一致、系統(tǒng)可靠性低等問(wèn)題。本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N以相位差鎖定的四路輸出激光器為光源的四光束激光干涉微納加工裝置，包括依次排列的脈沖激勵(lì)氙燈、Nd:YAG晶體、輸出鏡、1/4波片、調(diào)Q模塊、達(dá)曼透射光柵腔鏡和反射鏡。所述激光器無(wú)需經(jīng)過(guò)分光系統(tǒng)，可直接獲得單縱膜、相位差鎖定、光強(qiáng)相等、偏振態(tài)一致的四束光用以直接進(jìn)行反射相交干涉，其裝置操作簡(jiǎn)單，干涉角度易調(diào)整，成本低，可用于大面積、高效率、高分辨率的周期性微納結(jié)構(gòu)的加工。
圖片資料 一種四光束激光干涉微納加工裝置
合作方式 擬轉(zhuǎn)讓
聯(lián)系人 戚梅宇 聯(lián)系電話 13074363281