專利名稱 基于兩級可見性平滑濾波的近似柔和陰影繪制方法
申請?zhí)?專利號 CN201610507279.1 專利權(quán)人（第一權(quán)利人） 長春理工大學(xué)
申請日 2016-06-24 授權(quán)日 2019-04-05
專利類別 授權(quán)發(fā)明 戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)分類 新一代信息技術(shù)
技術(shù)主題 鏡像|陰影效果|屏幕空間|平滑濾波器|光源|和相機
應(yīng)用領(lǐng)域 3D圖像的加工
意向價格 具體面議
專利概述 本發(fā)明公開一種基于兩級可見性平滑濾波的近似柔和陰影繪制方法。本方法通過對可視場景點的光源可見性以及相機光線經(jīng)一次反射后確定的非可視場景點的光源可見性進行平滑濾波，并用濾波結(jié)果對可視場景點處的光源光照貢獻和相機光線經(jīng)一次反射后確定的非可視場景點處的光源光照貢獻進行調(diào)制，來生成近似柔和陰影效果。本方法能夠繪制出三維場景中的柔和陰影在鏡子中成的柔和陰影鏡像效果。本方法使用比特位來存儲可視場景點和相機光線經(jīng)一次反射后確定的非可視場景點處的光源可見性值，存儲開銷小。由于本方法的可見性濾波屬于屏幕空間操作，因此不受三維場景復(fù)雜度影響。
圖片資料 基于兩級可見性平滑濾波的近似柔和陰影繪制方法
合作方式 擬許可
聯(lián)系人 戚梅宇 聯(lián)系電話 13074363281